TiN薄膜相关论文
微电子器件的迅速发展对TiN电极薄膜电阻率、表面粗糙度以及厚度均匀性均提出了更高的要求。本文采用半导体工艺兼容的反应磁控溅......
为探究脉冲频率对通过高功率脉冲磁控溅射制备TiN薄膜组织力学性能的影响，选用Ti靶和N2气体，采用反应磁控溅射技术通过改变HiPIMS电......
为改善医用不锈钢的耐磨性，采用反应磁控溅射在304不锈钢表面沉积了TiN薄膜，研究了Ti过渡层沉积时间对TiN薄膜微观结构和力学性能的......
钛及钛合金因硬度低,摩擦磨损性能差,限制了其在耐磨工况下的使用。表面处理技术可有效地改善钛合金的硬度和耐磨性能。其中真空热......
用直流磁控溅射法, 通过改变餓射总气压及N2与Ar的比例,在玻璃基片上制备了一系列TiN薄膜试样, 利 用X射线衍射仪(XRD)和X射线光电......
基于材料可饱和吸收效应实现脉冲激光的被动调制方式具有系统结构紧凑、调制过程快、成本低等优势，并且有潜力获得比声光或电光等主......
氮化钛薄膜(Titanium nitride,TiN)作为硬质薄膜的一种，具有较高的硬度、好的膜基结合力、涂层装饰性强等优点在刀具、精密零部件和......
表面工程作为一门新兴的综合性学科,近年来,在国内外得到了迅速的发展。实践证明,表面工程的运用能有效改善材料的表面性能,提高生......
学位
TiNx薄膜因其具有催化氢分子解离为氢原子的特性而受到氢气提纯领域的广泛关注。本文利用磁控溅射薄膜制备技术,系统研究了氮分压......
本文采用JGP-450多靶反应射频磁控溅射设备制备了不同氮氩比下的TiN薄膜、不同W含量的Ti-W-N薄膜以及不同V含量的Ti-W-V-N薄膜。利......
采用磁控溅射技术在异形工件表面制备薄膜时,工件各个部位与溅射靶材之间存在不同的倾斜角度,会导致“阴影效应”。“阴影效应”的......
用直流反应磁控溅射法在普通玻璃上制备了 Alx Ti1 - x N(x...
依据等离子体物理学中气体放电理论基础,将气体放电引入强辉弱弧区间时,镀料粒子会以“碰撞电离加阴极热电子发射”方式脱离靶面,......
电弧离子镀具有离化率高,沉积速度快,基体温度低等优点,成为沉积TiN、TiAlN等硬质薄膜的最有效方法之一。然而,电弧离子镀薄膜中含......
利用化学气相沉积技术可以在多种结构钢、工具钢和模具钢基体上沉积TiN薄膜，它是一种综合性能优良的硬膜材料，可以实现材料的表面强......
微尺度激光喷丸强化是一种主要应用于微小金属构件或金属薄膜材料表面处理的技术,其采用微米量级的高能短脉冲激光束诱导的高压冲......
用国产AIP-01型多弧离子镀膜机，通过改变脉冲偏压的占空比和在靶前加不锈钢圈和磁铁，在高速钢、硅片以及硬质合金基体上沉积了TiN薄......
本文研究了采用钛/石墨复合靶和钛/甲烷/氮气真空电弧沉积法,利用Bulat-6多弧离子镀膜机在不同的工艺参数下制备了TiN/CNx复合薄膜......
TiN薄膜是目前工业研究和应用最为广泛的薄膜材料之一，其高硬度、低摩擦系数等优良的综合力学性能，被广泛用做工模具、刀具等耐磨改......
管筒形工件内表面改性一直是等离子体表面改性领域的难题，尤其是细管和长径比较大的管件，等离子体难以进入管件内部，因而处理难度更大......
表面工程作为一门新兴的综合性学科，近年来，在国内外得到了迅速的发展。实践表明，表面工程的运用能有效改善材料的表面性能，提高生产力......
TiN薄膜具有耐磨、高硬度等特点，十分适合做刀具、轴承涂覆膜层。它不但能提高工具的耐磨性，还能延长工具寿命3～5倍。TiN薄膜呈独特的......
根据气体放电双峰曲线中伏安特性处于“欧姆-反欧姆”过渡区间时,其电子迁移通量将数十倍于磁控溅射离子镀、靶电压数倍于多弧离子......
在工业应用中通过表面涂层技术来提高切割工具、轴承、模具等的寿命是非常重要的,因此低摩擦系数、高硬度及耐腐蚀和抗氧化的涂层......
对M3滚刀进行了物理气相沉积 (PVD)工艺试验。经高温耐磨试验和切削试验证明 ,M3滚刀经TiN涂层后 ,其耐磨性和使用寿命显著提高。
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利用多功能离子束增强沉积设备，采用三种不同工艺方法制备TiN薄膜，并对制备的TiN薄膜进行了AES，XPS，XRD，RBS和TEM等分析。结果表明：所制......
采用电弧离子镀技术在45#钢衬底表面沉积了TiN薄膜。用显微硬度计测试了薄膜的硬度,用球—盘式摩擦磨损试验机评价了在不同测试条......
采用激光分子束外延(LMBE)技术在Si(100)上制备了高质量的TiN薄膜。对N2分压和激光脉冲能量对TiN薄膜晶体结构、生长模式和表面形......
本文使用AIP-01型国产多弧离子镀膜设备,采用不同的弧源电流在不锈钢衬底及Si片上制备了TiN薄膜,对其硬度、表面形貌以及摩擦系数......
采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响。实验结果表......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
研究溅射电流对TiN薄膜表面形貌的影响.结果表明:当其他参数不变的情况下,薄膜表面粗糙度(RMS)随电流的增大先变大后变小.在电流达......
利用IPB30/30T型空心阴极离子镀膜机并改变蒸发源料中Ti、Al的比例,在不锈钢表面沉积了不同Al含量的TiAlN薄膜;电子探针分析结果表......
用直流反应磁控溅射法在浮法玻璃基片上制备了TiN薄膜.镀膜试样在大气环境下分别经520C、570℃和620℃热处理10 min.用X射线光电子......
本文采用多弧离子镀技术在特种材料表面制备TiN薄膜.利用扫描电镜和X射线衍射仪对TiN薄膜的形貌、成分结构、残余应力进行研究,结......
研究了在低温磁控溅射沉积TiN薄膜过程中,负偏压对基体温度、薄膜表面性能、薄膜与基体界面结合强度以及摩擦学性能的影响.研究结......
用等离子体浸没离子注入与沉积(PIIID)复合改性技术在AISI52100轴承钢基体表面合成了高硬耐磨的TiN薄膜。膜层的相组成及其表面形......
用直流(d.c)反应磁控溅射沉积技术、X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜成像(TEM)微结构分析方法,研究了氮化钛薄膜表面层固态结构随......
PSD性能是评价电子储存环真空室材料及材料表面处理优劣的一个重要指标.对一约1.5m长不锈钢管道真空室进行了镀TiN薄膜处理,并在合......
本文根据加载激光的工艺参数以及薄膜、基体的材料特性,建立了薄膜与基体的有限元模型,对高斯激光在加载在薄膜表面后的温度场进行......
采用物理气相沉积工艺在高速钢表面沉积TiN薄膜,研究了TiN薄膜的疲劳磨损过程.采用原子力显微镜(AFM)观测分析了表面疲劳点蚀的形......
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品......
利用磁控溅射镀膜技术分别在硬质合金YG6X和单晶Si片表面制备TiN薄膜,分析N2流量对薄膜相组成、表面形貌、显微硬度和膜基结合力的......
为了研究Ar/N2流量比对Ti N薄膜耐蚀性的影响,采用反应直流磁控溅射法在304不锈钢上制备Ti N薄膜。研究了在溅射沉积过程中Ar/N2气......
利用热阴极离子镀技术改变主弧电流,控制镀膜时间等参数,在硬质合金基体上制备了TiN薄膜；利用XRD、自动划痕仪、SEM和显微硬度计对......
在不同沉积时间和基板温度下，采用反应磁控溅射的方法在~6ABV基板上沉积TiN薄膜，溅射过程中固定溅射总压、溅射功率、氮氩流量比等沉......
在传统离子镀电弧靶前安装挡板，用镜面抛光Si（100）片作基体，对有／无挡板时沉积的TiN薄膜的大颗粒分布和性能进行了研究。结果表明，在挡板......
